EDTA能与许多金属离子形成络合物，如果被测溶液中存在多种离子时，就能相互发生干扰。如何提高选择性，分别滴定出某一种离子，这在络合滴定中是一个非常重票的主要问题。

    除了采用分离分析达到分别测定外，对络合滴定来说，提高滴定选择性的途径，是降低干扰离子与EDTA络合物的稳定性或降低干挑离子的浓度。这实质上都是降低干扰离子与EDTA络合物的条件稳定常数。常用的方法有：

    （－）控制溶液的酸度消除干扰

    不同金属离子的EDTA络合物的稳定常数不同，因此滴定时最小的pH值也不一样。当溶液中存在两种或两种以上离子时，控制溶液的酸度，使其只能满足某一种离子最小pH值，以及只能有一种离子形成稳定的络合物，而其它离子则不易络合，从而达到消除于扰的目的。一般溶液中两种金属离子相等，允许误差＜1％，同时两种金属离子的络合物pK不稳值之差＞5时，则在滴定中不发生干扰。如溶液中同时含有Ca2＋、Mg2＋、A13＋、Fe3+四种离子，可调节溶液使其pH≈2，并以磺基水杨酸为指示剂，用EDTA滴定Fe3＋，这时其它三种离子不发生干扰。又如如当Bi3＋、Pb2＋两种离子共存时，在pH1的酸度下直接滴定Bi3+离子，然后调节在pH＝5～6继续滴定Pb2＋。

   （二）利用掩藏和解蔽消除干扰

   （1）络合掩蔽法  利用干扰离子与掩蔽剂形成稳定的络合物，此法在络合滴定中应用最广。如Ni2、Mg2＋共存时，以KCN掩蔽N：用EDTA滴定镁镁，或以氟化铵掩蔽镁，用EDTA滴定镍。当需掩蔽多种离子时，还可使用多种掩蔽剂联合掩蔽干扰离子。如Cu2+、Fe3＋、Pb2＋、Zn2+四种离子共存测定Zn2+时，先在pH＝1～2的溶液中以氟化铵掩蔽Fet，然后调节pH＝5c6，并加硫脲或硫代硫酸钠掩蔽Cu2＋，最后加氯化钡和硫酸钠掩蔽铅，用EDTA直接滴定Zn2＋。

   （2）沉淀掩蔽法  利用干扰离子与掩蔽剂产生沉淀消除干扰。如Ca2t、Mg：两种离子共存时，在溶液中加入NaOH使pH＞12，则Mg离子生成Mg（OH）2沉淀，用EDTA滴定钙离子。

   （3）氧化还原掩蔽法  利用氧化还原反应改变干扰离子的价态，降低其在溶液中的浓度，以达到消除于扰的目的，称为氧化还原掩蔽法。例如在pH＝1时时，用EDTA滴定Bi3+、Zr4+、Th4+等离子，则Fe3+的干扰就可借还原为Fe2＋而消除。

   （4）破掩蔽法  先用掩蔽剂将欲测离子掩蔽，进行滴定之后，采用适当方法解解除掩蔽，称为破蔽或叫“去掩蔽”。例如磷化溶液中含有Mn2＋、Cu2＋、Fe3＋、Zn2＋，欲测定Zn2+时，可用抗坏血酸、酒石酸、氰化钾先掩蔽Cu2＋、Zn2＋；用氟化铵掩蔽Fe3+，用EDTA

滴定Mn2＋，然后再加甲醛使氯化钾部分破坏，使Zn2＋析出；再用EDTA滴定析出的Zn2这种方法选择性好，但较难掌握。