金属抛光后的清洗液

原料配比

制备方法

按所给配方， 将所有组分溶解混合均匀，用水补足质量份至100。可用KOH,氨水或HNO3调节到所需要的pH。

原料介绍

有机酸为柠檬酸、 苹果酸、草酸、酒石酸等。

有机膦酸为氨基三亚甲基膦酸、羟基亚乙基二膦酸、已二胺四亚甲基腾酸、二乙烯三胺五亚甲基麟酸、2-膦酸丁烷-1,2,4-三发酸、双-1,6 亚已基三胺五亚甲基膦酸和羟基腾酰基乙酸、有机磷磺酸及其盐，可一-种或者多种配合使用，盐类优选铵盐、钾盐。

  其中，羧酸类聚合物为丙烯酸类聚合物及其盐，如聚丙烯酸，或者为丙烯酸与苯乙烯共聚物，或者为丙烯酸与顺丁烯二酸酐共聚物，或者为丙烯酸与丙烯酸酯共聚物，它们的分子址在1000~ 300000之间，较佳为1000~ 30000。

  清洗液中，还可以包括pH调节剂、消泡剂、杀菌剂等本领域常规的诈加剂。

产品应用

本品主要用作金属抛光后的清洗液。

产品特性

(1)通过加入羧酸类聚合物，可以降低表面粗糙度，抑制金属的腐蚀。通过加人有机膦酸可以加速金属表面残留的金属离子及金属氧化物的去除。通过羧酸类聚合物的加入，改善了晶片表面的亲水性，有利于品片的清洗。通过有机膦酸和羧酸类聚合物的配合使用，增加了研磨颗粒的去除。

(2)使用本产品清洗抛光后的含金属的晶片，可以去除抛光后晶片表面残留的研磨颗粒、金属离子等残留，降低金属表面粗糙度，改善清洗后晶片表面的亲水性，降低清洗后的表面缺陷，并且可以防止晶片在等待下一步工序的过程中可能产生的金属腐蚀。

(3)用本产品清洗后的铜图形晶片表面无污染，无研磨颗粒残留，无腐蚀等缺陷。用清洗液浸泡后的铜图形晶片的铜线边缘清晰、铜线无腐蚀。

金属制品用清洗液

原料配比

制备方法

将各组分原料混 合均匀即可。

产品应用

本品是一种 金属制品用清洗液。

产品特性

本产品具有 极强的渗透性和优良的除油性，使用添加剂量少，清洗成本低，清洗能力强、速度快，易漂洗，可重复使用，无污染，具有防锈能力，1件表面质量好，处理成本较低;配制工艺简单，使用简便，具有低泡;高效、金属表面无腐蚀、稳定性好的特点，可增强清洁度，具有推广价值;性质稳定同时便于废弃清洗液的处理排放，还能降低对设备的腐蚀性。