金属表面的安全清洗剂配方制备方法

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金属表面的安全清洗剂配方制备方法

三水锰矿 / 2021-11-11

金属表面清洗剂是一种绿色环保，无腐蚀，快速安全的清洗剂,具有优良的渗透性、乳化性和清除油焦的能力，在水中有极好的溶解性，使用简单方便，使用后可以直接排放，安全环保。直接用于碳钢、不锈钢、紫铜、铁、纤维、皮革、橡胶等材质的清洗时，不会对材质有任何点蚀、氧化或其它有害的反应。

金属表面清洗剂是指用于清洗金属材料表面油、蜡、锈、胶、漆、粉、积碳、手印、汗渍、切削液及其它物质用的清洗剂的统称；常见的金属材料有铜（纯铜，青铜，白铜、黄铜等)、铁（不锈铁、马口铁)、钢（碳素钢、合金钢）、镀锌板、铝（纯铝、铝合金）、合金等。

用于金属表面除油脂用的金属表面清洗剂也叫金属除油剂、金属脱脂剂、油污清洗剂等；用于金属表面除蜡用的金属表面清洗剂也被称为金属除蜡水，除腊水清洗剂等；用于金属表面除锈用的金属表面清洗剂也被称为除锈剂；用于金属表面去除油漆用的金属表面清洗剂也被称为脱漆剂；用于金属表面积碳用的金属表面清洗剂也被称为积碳清洗剂等。

配方01

不损伤金属表面的安全清洗剂

原料配比

原料	配比(质量份)
原料	1#	2#	3#
二乙烯三胺五乙酸	2.7	1.5	3.7
无水硅酸钠	2.8	2.5	3.8
氨基二亚甲基膦酸	2.9	2.3	3.6
N,N-二甲基丙烯酰胺	7.9	7.5	8.6
表面活性剂烷基硫酸钠	3.7	3.2	4.5
钼酸钠	4.7	3.5	5.7
三羟乙基甲基季铵甲基硫酸盐	7.4	6.2	8.4
二异丙醇胺	3.9	3.4	5.3
琥珀酸磺酸钠盐	4.6	3.5	5.6
水	加至100	加至100	加至100

制备方法

将各组分原料混合均匀即可。

产品应用

本品是一种不损伤金属表面的安全清洗剂。

产品特性

本产品具有极强的渗透性和优良的除油性，使用添加剂量少，清洗成本低，清洗能力强，可重复使用，无污染，具有防锈和减少蚀度、延长零部件寿命的作用;可以减少成本、降低金属表面粗糙度、增强清洁度。

配方02

对金属表面无损伤的清洗剂

原料配比

原料	配比(质量份)
原料	1#	2#	3#
2-丙烯酰氨基2甲基丙磺酸	1.8	1.5	2.8
	1.3	0.8	2.3
二磷酸钾	2.4	1.2	3.4
水	1.4	1.2	1.5
烃基乙酸	1.9	1.5	2.8
稳定剂油酸甲酯	5.4	3.1	6.4
聚乙烯吡咯烷酮	5.7	3.5	6.7
增稠剂疏水性有机硅改性乳液	4.9	4.5	5.8

制备方法

将各组分原料混合均匀即可。

产品应用

本品是一种对金属表面无损伤的清洗剂。

产品特性

本产品能够提高对油污等有机污染物的溶解度，可溶解金属表面的有机污染物;能够增强清洗剂的渗透性，提高对金属表面的清洗效果;能够增强质量传递，保证清洗的均匀性，降低对精密金属表面的损伤;能降低清洗剂的表面张力，同时具有水溶性好、渗透力强、无污染等优点;清洗剂中选用的化学试剂，不污染环境，不易燃烧，属于非破坏臭氧层物质，清洗后的废液便于处理排放，能够满足环保“三废”排放要求;制造工艺简单，操作方便，使用安全可靠。

原料

配比(质量份)

10#

11#

12#

13#

14#

15#

16#

噻唑衍生物

2,5-二(叔十二烷基二硫代)-1,3,4-噻二唑

0.5

2,5-二巯基-1,3.4-噻二唑

0.2

5-(2-氯苯甲基硫代)-2-巯基-3,4-噻二唑

2，5-双(辛基二硫代)噻二唑

0.1

2-巯基苯并噻二唑

2.5

2-巯基噻二唑

1.5

2-氨基-1,3,4-噻二唑

2-巯基-5-甲基-1,3,4-噻二唑

1.5

5-甲基-2-巯基噻二唑

0.8

1,2.3-苯并噻二唑

1.5

溶剂

N-甲基吡咯烷酮

溶剂

环丁砜

88.3

溶剂

1,3-二甲基-2-咪唑烷酮

溶剂

2-咪唑烷酮

88.5

溶剂

N-环己基吡咯烷酮

溶剂

甲乙基亚砜

76.5

溶剂

二甲基甲酰胺

95.6

溶剂

二甲基乙酰胺

86.4

溶剂

二甲基亚砜

溶剂

甲基砜

88.2

醇胺

N-(2-氨基乙基)乙醇胺

3.5

醇胺

N-甲基乙醇胺

5.5

醇胺

二甘醇胺

0.5

醇胺

三乙醇胺

2.5

醇胺

单乙醇胺

2.5

季铵氢氧化物

四丙基氢氧化铵

2.5

季铵氢氧化物

四甲基氢氧化铵

3.5

0.1

2.5

C4~c6R的多元醇

核糖醇

0.5

C4~c6R的多元醇

阿拉伯糖醇

C4~c6R的多元醇

木糖醇

C4~c6R的多元醇

山梨醇

2.5

C4~c6R的多元醇

甘露醇

C4~c6R的多元醇

半乳糖醇

噻唑衍生物

2-巯基噻二唑

噻唑衍生物

2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑

88.3

3.5

噻唑衍生物

2巯基苯并噻唑

噻唑衍生物

5-甲基-2-巯基噻二唑

88.2

1.5

噻唑衍生物

2-氨基噻唑

0.5

溶剂

二丙二醇单甲醚

88.5

溶剂

1,3-二甲基-2-咪唑啉酮

溶剂

二甲基亚砜

76.5

溶剂

二乙二醇单丁醚

95.6

溶剂

1,3-二甲基-2-咪唑啉酮

86.4

制备方法

将所述原料简单均匀混合即可制得。

产品应用

本品主要用于去除晶圆上的光刻胶(光阻)残留物。

本产品可以在25~80°C下清洗晶圆上的光刻胶(光阻)残留物。具体方法如下:将含有光刻胶(光阻)残留物的晶圆浸人本产品中的清洗液中，在25~80°C下浸泡合适的时间后，取出漂洗后用高纯氮气吹干。

产品特性

本产品在有效去除晶圆上的光刻胶(光阻)残留物的同时，对于基材如金属铝、铜等基本无腐蚀，在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。

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